| Opis | Opis produktu:
Retix.C Ultra Repair Nano-Mask
EctoHyal Complex 3.0 to preparat w formie profesjonalnej maski pozabiegowej.
Efekt drugiej skóry. Maska idealnie przylega do skóry tworząc wrażenie
przedłużenia skóry. Maska świetnie nawilża, koi i uspokaja skórę redukując
zaczerwienienia. W składzie znajdziemy trzy formy kwasu hialuroowego oraz
ektoiny - EctoHyal Complex 3.0. Zastosowanie:
- silne nawilżenie
-
złagodzenie podrażnień
- ukojenie skóry
- redukcja zaczerwienień oraz
uczucia ściągnięcia Obszary stosowania: twarz Skład:
Ectohyal complex 3.0 - kompleks
składników o działaniu nawilżającym.
Kwas hialuronowy - działanie
nawilżające i ujędrniające, składnik przywracający równowagę wodną
organizmu,
Ektoina - organiczny związek chemiczny powstał w procesie
fermentacji; właściwości ochronne, przeciwzapalne i nawilżające; dzięki
tworzeniu hydrokompleksów ektoinowych zapobiega wysuszaniu się
skóry.
Bisabolol - ekstrakt z rumianku lekarskiego o działaniu
przeciwzapalnym, łagodzącym oraz pobudzającym naskórek do
regeneracji. Ingredients (INCI):
Aqua (Water), Glycerin,
Propylene Glycol, Polyacrylate-13, Polyisobutene, Estoin, p-Anisic Acid,
Chlorphenesin, Sodium Hyaluronate, Lactic Acid, Sodium Hydroxide, Bisabolol,
Polysorbate 20, 0-Cymen-5-ol, Sorbitan Isostearate, Sodium Phytate, Ethylhexyl
Palmitate, Alcohol, Trihydroxystearin. Sposób użycia:
Aplikować na cała skórę twarzy po
wykonanym zabiegu, tak by idealnie przylegała do skóry. Pozostawić na 20 minut,
usunąć a następnie wmasować pozostałą część produktu. Opakowanie: 1 saszeteka 15
g |
